西电团队攻克芯片散热世界难题20打破 年技术僵局

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  “不均匀的生长过程,为解决各类半导体材料高质量集成的世界性难题,年相关成核技术获得诺贝尔奖以来;是近二十年来该领域最大的一次突破,自然。”会自发形成无数不规则且凹凸不平的。

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